Fotos © Andreas Buchberger

Die IMS Nanofabrication GmbH, wobei IMS für “Ionen-Mikrofabrikations-Systeme” steht, ist ein multidisziplinäres Hightech-Unternehmen, das im Nanobereich arbeitet und auf Innovationen in der Elektronenstrahl-Lithographie spezialisiert ist. 

Das am Stadtrand von Wien gelegene Unternehmen entwickelt und produziert die weltweit ersten Multi-Elektronenstrahlschreiber für die Global Player der Halbleiterindustrie. Die sogenannten Multi-Beam Mask Writers sind Maschinen, die mit 262.144 programmierbaren Elektronenstrahlen auf 6-Zoll-Photomasken schreiben.

Doppelboden ermöglicht Filterkreislauf für reinste Luftbedingungen

Im Reinraumbereich der neuen Produktionsstätte in Brunn am Gebirge sorgen 522 Filter Fan Units bei einer Raumhöhe von 6,20m für reinste Umgebungsbedingungen, entsprechend den ISO Klassen 7 und 5. 

Über die Lochplatten eines ein Meter hohen Doppelbodens,( erstmals auch von IMS Nanofabrication in dieser Weise verbaut) wird die über die Decke einströmende Luft durch Rückluftkanäle in den Wänden wieder zurück in das Plenum geleitet.. Dort wird die Luft erneut gefiltert und über die FFU wieder in den Reinraum geführt.. 

Lüftungsplatten im Boden flexibel an das Layout der Produktionsstätte anpassbar

Eine weitere Besonderheit bei diesem Projekt ist, dass die mehr als 4000m² Wandfläche auf dem Rohboden aufgeständert ist und nicht auf dem Doppelboden steht. Der Vorteil hier ist, dass so jede Bodenplatte zugänglich ist, so dass auf jede Stelle unterhalb des Doppelbodens leicht zugegriffen werden kann. Die Lüftungsplatten, die die Zirkulation der Luft im Reinraum erlauben, können flexibel je nach möglichen Layout Veränderungen in der Halle verlegt werden.

Schleusen mit Zahlencode Funktion und Luftduschen sichern Partikelfreiheit im Reinraum

Personalschleusen mit Luftduschen und Materialschleusen mit Zahlencodes erhöhen bei diesem Projekt zusätzlich die Qualitäts- und Sicherheitsstandards.

Technische Details:

• Reinraumklassen ISO 7 und ISO 5
• Druckplenum (bis 200Pa)
• 2000m² ableitfähiger Doppelboden
• 2000m² Deckenfläche
• Mehr als 4000m² Wandfläche
• Reinraumwand als Rückluftwand ausgeführt
• Raumhöhe 6,20m
• 1 flg. Türen mit 1,50 x 3,50m 
• 2 flg. Türen mit 3,00 x 3,00m
• 522 Filter Fan Units
• Automatisch öffnende Revisionstüren
• Personalschleusen mit Luftduschen
• 3 Materialschleusen mit Zahlencode

Über IMS Nanofabrication GmbH:

IMS (= Ionen Mikrofabrikations Systeme) wurde im Februar 1985 mit Venture Capital in Wien gegründet. Ab 1986 entwickelte IMS im Rahmen des EUREKA-Projekts zwei Ionen-Projektions-Lithographie (IPL) -Forschungsgeräte, das erste ging 1988 an das damalige Fraunhofer-Institut für Mikrostrukturtechnik in West-Berlin, das zweite wurde 1989 im Auftrag der TU Wien realisiert.
2010 entwickelte IMS den ersten Proof-of-Concept Elektronen-Multistrahl-Maskenschreiber (MBMW – Multi-Beam Mask Writer). Damit legte IMS den Grundstein für ein Konsortium mit Intel, TSMC, DNP und Photronics.